阿斯麦CEO论对华技术出口:西方需平衡遏制与市场
(图片来自网络)
【文/观察者网 阮佳琪】 在先进芯片制造领域,最关键的设备当属将芯片图案打印到硅晶圆上的极紫外(EUV)光刻机。荷兰公司阿斯麦(ASML)目前是EUV光刻机的全球唯一生产商,其单台光刻机成本高达数亿美元。
当地时间12月12日,美国彭博社发布对阿斯麦首席执行官克里斯托夫·富凯(Christophe Fouquet)的专访。报道指出,阿斯麦虽受益于AI热潮带动的半导体行业发展,业绩持续走高,但除了要应对市场波动与投资不确定性,还需直面复杂地缘政治环境带来的多重挑战。
近年来,美国持续向荷兰施压,要求限制阿斯麦对华出售先进芯片制造设备。报道提到,随着大力发展本土芯片产业,中国大陆已于去年成为阿斯麦的最大市场。然而受美方禁令影响,阿斯麦如今被禁止向中国出口所有EUV设备及最先进的深紫外(DUV)光刻设备。
在专访中,去年接任CEO一职的富凯重申其观点,即“应向中国适度输出技术以防其自主研发形成竞争力”。他进一步宣称,在对华技术出口限制问题上,西方需要找到一个微妙的平衡点。
“中国绝不会接受在技术方面被‘卡脖子’的处境,”他解释道,“如果你是一个拥有14亿人口的大国,就必然要谋求技术进步,这是不争的事实。”
富凯出主意称,西方可以通过拒绝向中国提供“最新和最好的产品”,以维持中方对西方技术的依赖,同时拖慢中国自主技术进步的速度。据他透露,目前阿斯麦对华出口的设备,比最新的高数值孔径光刻技术整整落后了八代,技术水平相当于该公司2013、2014年销往西方客户的产品,技术差距超过十年。
“但问题的关键在于,我们要把这种技术差距拉大到何种程度?是让中国落后5年、10年,还是15年?”富凯继而担忧称,如果西方过度收紧限制,将中国逼至绝境,迫使中方别无选择、只能彻底摆脱对西方技术的依赖,反而会倒逼中国决心自主研发替代产品。从长远来看,这将导致西方彻底失去这一庞大市场。
“中国已经在很多领域实现自主研发了,假以时日,他们甚至可能反过来向我们出口这些产品。”他补充道。
富凯声称,关键争论点不该是“是否要对华限制”,而是思考“西方希望中国落后到何种程度”。他宣称,西方必须在“遏制手段、技术代差”和“由此引发的后果”之间,找到一个所谓“恰当”的平衡点。
彭博社在报道中指出,尽管目前阿斯麦在光刻领域占据垄断地位,但其未来发展仍面临挑战。举例而言,中国上海微电子装备的设备虽比阿斯麦落后10至15年,但该公司正在政府支持下大力追赶光刻技术;硅谷风投大佬彼得·蒂尔(Peter Thiel)支持的旧金山初创企业Substrate,也计划利用新型激光技术挑战阿斯麦的市场地位,只是其技术距离量产仍需数年时间。
采访接近尾声时,富凯仍对自身技术优势抱有信心。他乐观表示,“光刻技术仍然很难被完全替代……而且整个生态系统的关联性极强。这不仅关乎光刻技术本身,还涉及我们的光刻设备如何融入客户的整个生产流程。”
富凯的判断中,至少有一点是完全正确的:中国绝不会停下追求技术突破的脚步。
法国《世界报》10月曾刊文指出,面对光刻技术瓶颈,中国企业正加倍努力实现自给自足。在国家战略支持下,中国企业已制定宏伟目标,计划到2030年掌控全球近三分之一的晶圆代工产能。
报道强调,这是中国“以自主技术突破西方封锁”的又一次重要尝试。有分析师告诉法媒,中国国内已形成普遍共识——无论面临多少阻碍,加速推进技术突破的目标坚定不移。
“封锁成为了中国企业的兴奋剂。”有法媒总结该文章论点称,来自美西方的技术封锁反倒激发了中国更强烈的自主欲望,“整个中国,现在都在以一种‘你封我,我就自己造’的精神前行着。”
2024年1月,中方曾就美国强推“光刻机禁令”严正表态称,中方一贯反对美国泛化国家安全概念,以各种借口胁迫其他国家搞对华科技封锁。半导体是高度全球化的产业,在各国经济深度融合的背景下,美方有关霸道、霸凌行径严重违背国际贸易规则,严重破坏全球半导体产业格局,严重冲击国际产业链、供应链的安全和稳定,必将自食其果。中方同时敦促荷方秉持客观公正立场和市场原则,尊重契约精神,以实际行动维护中荷两国和双方企业的共同利益,维护国际产业链、供应链的稳定和自由、开放、公正、非歧视的国际贸易环境。
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