盛美上海首台高产能KrF工艺前道涂胶显影设备顺利交付！

2025年9月8日

（图片来自网络）

盛美上海推出首台高产能KrF工艺前道涂胶显影设备并顺利交付！

KrF工艺前道涂胶显影设备Ultra LithKrF系统采用专有平台设计，实现高产能与先进工艺控制，专为成熟节点光刻应用打造。

作为为半导体前道和先进晶圆级封装提供晶圆工艺解决方案的供应商，盛美半导体设备(上海)股份有限公司（以下简称“盛美上海”），在今日宣布推出首款KrF工艺前道涂胶显影设备Ultra LithKrF，以支持半导体前端制造。

该系统的推出标志着盛美上海光刻产品系列的重要扩充，具备高产能、先进温控技术以及实时工艺控制和监测功能。

首台设备系统已于2025年9月交付给中国头部逻辑晶圆厂客户。

盛美上海总经理王坚表示，这款设备拓展了公司在前端工艺设备领域的影响力，体现应对更广泛光刻技术挑战的能力。KrF光刻技术是成熟工艺器件生产的核心工艺，此类设备在全球半导体产出中占比庞大且持续增长。

通过同时提供ArF和KrF工艺涂胶显影系统，实现更广泛领域中的顺畅晶圆厂集成效率与制造灵活性。

该设备基于ArF工艺前道涂胶显影设备平台成熟架构打造，已于2024年底在中国一家头部客户端完成工艺验证。此次推出的KrF系统可均匀涂布次埃级涂层，具备与ASML光刻机匹配的关键尺寸（CD）精度，为KrF型号的设计优化奠定坚实基础。

产品主要特点